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Liga de baixa expansão
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Liga magnética macia
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Liga elástica
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Bimetal termo
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Fio de soldadura
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Fio térmico do pulverizador
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Liga do nicromo
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Níquel puro
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Ligação de cobre e níquel
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Cabo de par termoelétrico
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Liga de Monel
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Liga de incônel
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Liga de Hastelloy
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Liga de alta temperatura
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Nitinol ligado
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Para cabeçalho
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Outros
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Alfred...Recebemos a mercadoria, tudo correu bem. Embalagem perfeita, boa qualidade do produto, bom preço - estamos satisfeitos. -
Maio ***A qualidade do produto é muito boa, além das minhas expectativas, o uso real de totalmente atender às minhas necessidades, vamos comprar novamente. -
Matthew...Comprei liga de baixa expansão da Joy. Ela é uma senhora muito responsável. A qualidade dos produtos da Huona é muito boa.
Huona Ni200/Ni201 Uniform Resistance Pure Nickel Micro Wire for Vacuum Electronic Devices
| Lugar de origem | China |
|---|---|
| Marca | Huona |
| Certificação | ISO9001 |
| Número do modelo | NI200 |
| Quantidade de ordem mínima | 30 kg |
| Preço | Discuss |
| Detalhes da embalagem | Desenhos animados ou caixa de madeira |
| Tempo de entrega | 7-21 dias |
| Termos de pagamento | L/C, T/T, Western Union, MoneyGram |
| Habilidade da fonte | 200 toneladas/mês |
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x| Modelo não. | NI200 | Nome do produto | Fios de níquel puro |
|---|---|---|---|
| Pureza | 99.6%min | Densidade | 8,9 |
| Diâmetro | 0,025mm | Pacote de Transporte | Caixas de madeira ou caixas |
| Marca registrada | Huona |
Product Description
HUONA Ni200/Ni201 Uniform Resistance Pure Nickel Micro Wire for Vacuum Electronic Devices
It has good mechanical strength, corrosion-resistant, and heat-resistant strength.
It is suitable for radio, electric light source, machinery manufacturing, chemical industry, and is an important structural material in vacuum electronic devices.
It is widely used in electric apparatus, chemical machinery, good processing equipment, rechargeable batteriesomputers, cellular phones, power tools, camcorders, and so on.
Chemical Composition
| Grade | Element Composition/% | |||||||
| Ni+Co | Mn | Cu | Fe | C | Si | Cr | S | |
| Ni201 | ≥99.0 | ≤0.35 | ≤0.25 | ≤0.30 | ≤0.02 | ≤0.3 | ≤0.2 | ≤0.01 |
| Ni200 | ≥99.0 | /≤0.35 | ≤0.25 | ≤0.30 | ≤0.15 | ≤0.3 | ≤0.2 | ≤0.01 |
Propertis
| Density | Melting point | Coefficient of expansion | Modulus of rigidity | Modulus of elasticity | Electrical resistivity | |
| Ni200 | 8.9g/cm3 | 1446°C | 13.3 µm/m °C (20-100°C) | 81kN/mm2 | 204kN/mm2 | 9.6μW• cm |
| Ni201 | 1446°C | 13.1µm/m °C(20-100°C) | 82kN/mm2 | 207kN/mm2 | 8.5μW• cm |
|
Diameter(mm) |
Tolerance(mm) |
Diameter(mm) |
Tolerance(mm) |
|
0.03-0.05 |
±0.005 |
>0.50-1.00 |
±0.02 |
|
>0.05-0.10 |
±0.006 |
>1.00-3.00 |
±0.03 |
|
>0.10-0.20 |
±0.008 |
>3.00-6.00 |
±0.04 |
|
>0.20-0.30 |
±0.010 |
>6.00-8.00 |
±0.05 |
|
>0.30-0.50 |
±0.015 |
>8.00-12.0 |
±0.4 |
Specification of Cold-drawing Strip Type
|
Thickness(mm) |
Tolerance(mm) |
Width(mm) |
Tolerance(mm) |
|
0.05-0.10 |
±0.010 |
5.00-10.0 |
±0.2 |
|
>0.10-0.20 |
±0.015 |
>10.0-20.0 |
±0.2 |
|
>0.20-0.50 |
±0.020 |
>20.0-30.0 |
±0.2 |
|
>0.50-1.00 |
±0.030 |
>30.0-50.0 |
±0.3 |
|
>1.00-1.80 |
±0.040 |
>50.0-90.0 |
±0.3 |
|
>1.80-2.50 |
±0.050 |
>90.0-120.0 |
±0.5 |
|
>2.50-3.50 |
±0.060 |
>120.0-250.0 |
±0.6 |

